电容薄膜真空计得原理

电容薄膜式真空计是用于量测真空度的常用仪器，其量程范围可达25000Torr~10-5Torr左右，

其量程范围大，测量精度高；可直接测量压力，与气体的组分没有关系，灵活性高，

因此在半导体设备中应用非常广泛，主要应用于刻蚀、PVD、CVD、炉管（Furnace）等真空设备中

，一般在腔体与控压装置之间的管道上方(CKD forline)垂直安装。

电容薄膜式真空计由薄膜（上表面镀有金属）、电极、吸气泵、传感器等构成

吸气泵主要用于将参考腔体中的气体抽走，制造高真空的环境；

薄膜（一般为陶瓷薄膜，Al2O3,厚度约250μm）与电极形成电容，

当测量腔体的气体从真空计下端进入测量腔体后，气体会挤压陶瓷薄膜，

从而改变薄膜与电极之间的距离，因其电容值的变化，转化为电学信号，进而换算成压力值，

从而测量出腔体中的真空度。