臭氧精准可控，工艺稳定如一：昀控MFC助力半导体先进制程

在半导体制造的前沿工艺中，臭氧（O₃）因其的氧化能力和快速反应速率，已成为的“工艺利器"。从原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）到晶圆清洁和光刻胶剥离，臭氧的应用贯穿了众多关键环节。其化学性质极不稳定，易受温度影响而分解，尤其在一些需要低压（如5 psia）供气的先进应用场景中，臭氧的精准测量与稳定控制成为一项挑战的课题。臭氧分解不仅是放热反应，还会释放活性氧原子，若控制不当，不仅影响工艺一致性，更可能因过热引发安全隐患。

针对这一工艺痛点，苏州昀控电子科技有限公司（简称：昀控）推出的高性能质量流量控制器（MFC），为半导体行业提供了一套精准、可靠的气体测控解决方案。

专为“敏感气体"而生，从源头抑制热分解

传统的热式质量流量计在测量易热分解气体（如臭氧）时，传感器本身的热量可能会加速气体分解，导致测量失真和控制漂移。昀控MFC深刻理解这一行业难题，其核心传感器经过优化，可在0-50°C的低温环境下稳定工作，有效避免了传统传感器因高温工作而对臭氧造成的额外热影响。

通过采用独特的环境温度补偿技术，昀控MFC能够在不额外引入热量的前提下，精确感知气体流量，从源头上抑制了臭氧在测量环节的热分解。这一特性对于ALD等需要在低气压下精确供给臭氧的工艺尤为关键，确保了进入反应腔室的气体浓度与流量高度一致，从而保障薄膜生长的均匀性与器件良率。

压力控得稳，流量才测得准

在实际产线中，臭氧供气管路的上游压力波动是导致流量控制失准的常见诱因。昀控不仅提供性能优异的MFC，更具备“压力-流量-真空"一体化测控能力。其高精度电子压力控制器（EPC）可与MFC形成闭环控制，在臭氧进入MFC前先将压力稳定在设定值，有效消除了气源波动带来的干扰，让流量控制更加精准，工艺重现性更高。

国产替代，更优的交付与服务

作为扎根苏州的国产精密测控企业，昀控依托长三角完备的产业链优势，其MFC产品在实现高精度（±0.2% F.S.）、快速响应（<100 ms）和1000:1宽量程比的同时，交付周期相较于进口品牌可缩短30%以上。同时，其内置的20种基础气体库及10种自定义混合气功能，方便用户在不同工艺间快速切换，无需返厂标定，极大提升了设备的利用效率。

在臭氧这种特殊气体的应用中，苏州昀控的MFC以“低温传感、精准测控"为核心，配合的本地化技术支持，为半导体、新能源及精密化工行业提供了一个兼顾高性能与高性价比的可靠选择，助力客户在严苛的工艺挑战中实现稳定生产与降本增效。